2010, ISBN: 9783838122397

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[ED: Taschenbuch / Paperback], [PU: Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften], Die absolut quantitative und standardfreie Analyse von Konzentrationsprofilen in ultradünnen Oxidschichten, insbesondere an deren Grenzflächen, stellt eine enorme Herausforderung an die in Verwendung kommende Analysetechnik dar. Im Rahmen dieser Arbeit stand die Weiterentwicklung der hochauflösenden Rutherford-Streuspektrometrie (HR- RBS) im Forschungszentrum Dresden-Rossendorf (FZD) sowie die Beantwortung grundlegender experimenteller und theoretischer Fragestellungen zur HR-RBS im Vordergrund, die weltweit nur von einzelnen Gruppen erfolgreich angewendet wird. In Kooperation mit Qimonda AG und Fraunhofer CNT wurde die HR-RBS als zerstörungsfreie Ionenstrahlanalyse zur Quantifizierung von Tiefenprofilen an den Grenzflächen von Schichtsystemen im Sub- Nanometerbereich adaptiert, um das Diffusionsverhalten und Schichtwachstum im Anfangsstadium von high-k Dielektrika zu untersuchen. Die in sechs Kapitel unterteilte Dissertation beschreibt ausführlich durchgeführte Experimente zur Untersuchung von oberflächennahen high-k Schichten, die mittels Atomic Layer Deposition (ALD) abgeschieden worden sind., DE, [SC: 0.00], Neuware, gewerbliches Angebot, 136, Selbstabholung und Barzahlung, PayPal, offene Rechnung, Banküberweisung, Internationaler Versand<

ISBN: 9783838122397

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Die absolut quantitative und standardfreie Analyse von Konzentrationsprofilen in ultradünnen Oxidschichten, insbesondere an deren Grenzflächen, stellt eine enorme Herausforderung an die in Verwendung kommende Analysetechnik dar. Im Rahmen dieser Arbeit stand die Weiterentwicklung der hochauflösenden Rutherford-Streuspektrometrie (HR- RBS) im Forschungszentrum Dresden-Rossendorf (FZD) sowie die Beantwortung grundlegender experimenteller und theoretischer Fragestellungen zur HR-RBS im Vordergrund, die weltweit nur von einzelnen Gruppen erfolgreich angewendet wird. In Kooperation mit Qimonda AG und Fraunhofer CNT wurde die HR-RBS als zerstörungsfreie Ionenstrahlanalyse zur Quantifizierung von Tiefenprofilen an den Grenzflächen von Schichtsystemen im Sub- Nanometerbereich adaptiert, um das Diffusionsverhalten und Schichtwachstum im Anfangsstadium von high-k Dielektrika zu untersuchen. Die in sechs Kapitel unterteilte Dissertation beschreibt ausführlich durchgeführte Experimente zur Untersuchung von oberflächennahen high-k Schichten, die mittels Atomic Layer Deposition (ALD) abgeschieden worden sind. Bücher > Sachbücher > Naturwissenschaften & Technik > Physik 22.4 cm x 15.1 cm x 1.7 cm mm , Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften, Taschenbuch, Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften<

2010, ISBN: 9783838122397

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[ED: Softcover], [PU: Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften], Die absolut quantitative und standardfreie Analyse von Konzentrationsprofilen in ultradünnen Oxidschichten, insbesondere an deren Grenzflächen, stellt eine enorme Herausforderung an die in Verwendung kommende Analysetechnik dar. Im Rahmen dieser Arbeit stand die Weiterentwicklung der hochauflösenden Rutherford-Streuspektrometrie (HR- RBS) im Forschungszentrum Dresden-Rossendorf (FZD) sowie die Beantwortung grundlegender experimenteller und theoretischer Fragestellungen zur HR-RBS im Vordergrund, die weltweit nur von einzelnen Gruppen erfolgreich angewendet wird. In Kooperation mit Qimonda AG und Fraunhofer CNT wurde die HR-RBS als zerstörungsfreie Ionenstrahlanalyse zur Quantifizierung von Tiefenprofilen an den Grenzflächen von Schichtsystemen im Sub- Nanometerbereich adaptiert, um das Diffusionsverhalten und Schichtwachstum im Anfangsstadium von high-k Dielektrika zu untersuchen. Die in sechs Kapitel unterteilte Dissertation beschreibt ausführlich durchgeführte Experimente zur Untersuchung von oberflächennahen high-k Schichten, die mittels Atomic Layer Deposition (ALD) abgeschieden worden sind. 2010. 136 S. Versandfertig in 6-10 Tagen, DE, [SC: 0.00], Neuware, gewerbliches Angebot, Offene Rechnung (Vorkasse vorbehalten)<

ISBN: 9783838122397

Die absolut quantitative und standardfreie Analyse von Konzentrationsprofilen in ultradünnen Oxidschichten, insbesondere an deren Grenzflächen, stellt eine enorme Herausforderung an die i… Mehr…

Die absolut quantitative und standardfreie Analyse von Konzentrationsprofilen in ultradünnen Oxidschichten, insbesondere an deren Grenzflächen, stellt eine enorme Herausforderung an die in Verwendung kommende Analysetechnik dar. Im Rahmen dieser Arbeit stand die Weiterentwicklung der hochauflösenden Rutherford-Streuspektrometrie (HR- RBS) im Forschungszentrum Dresden-Rossendorf (FZD) sowie die Beantwortung grundlegender experimenteller und theoretischer Fragestellungen zur HR-RBS im Vordergrund, die weltweit nur von einzelnen Gruppen erfolgreich angewendet wird. In Kooperation mit Qimonda AG und Fraunhofer CNT wurde die HR-RBS als zerstörungsfreie Ionenstrahlanalyse zur Quantifizierung von Tiefenprofilen an den Grenzflächen von Schichtsystemen im Sub- Nanometerbereich adaptiert, um das Diffusionsverhalten und Schichtwachstum im Anfangsstadium von high-k Dielektrika zu untersuchen. Die in sechs Kapitel unterteilte Dissertation beschreibt ausführlich durchgeführte Experimente zur Untersuchung von oberflächennahen high-k Schichten, die mittels Atomic Layer Deposition (ALD) abgeschieden worden sind. Buch 22.4 x 15.1 x 1.7 cm , Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften, Maik Vieluf, Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften, ielu<

ISBN: 9783838122397

HR-RBS Hochauflösende Rutherford-Streuspektrometrie ab 79 € als Taschenbuch: Experimentelle Untersuchung von Schichtwachstum im Anfangsstadium. Aus dem Bereich: Bücher, Wissenschaft, Phys… Mehr…

HR-RBS Hochauflösende Rutherford-Streuspektrometrie ab 79 € als Taschenbuch: Experimentelle Untersuchung von Schichtwachstum im Anfangsstadium. Aus dem Bereich: Bücher, Wissenschaft, Physik, Medien > Bücher nein Buch (kartoniert), Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften<